垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管 (VDMOS)
工艺能力:提供基于平面栅和沟槽栅技术的VDMOS工艺平台,电压覆盖 30V ~ 800V。优化了元胞结构、JFET区电阻和终端设计,实现导通电阻与击穿电压的最佳折中。
关键参数:低导通电阻(RDS(on))、高开关速度、低栅电荷(Qg)、优秀的抗雪崩能力(EAS)、宽安全工作区。
应用场景:开关电源(SMPS)、PWM电机驱动、逆变器、电子镇流器、汽车电子点火器、电源转换器。
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