垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管 (VDMOS)

工艺能力:提供基于平面栅和沟槽栅技术的VDMOS工艺平台,电压覆盖 30V ~ 800V。优化了元胞结构、JFET区电阻和终端设计,实现导通电阻与击穿电压的最佳折中。

关键参数:低导通电阻(RDS(on))、高开关速度、低栅电荷(Qg)、优秀的抗雪崩能力(EAS)、宽安全工作区。

应用场景:开关电源(SMPS)、PWM电机驱动、逆变器、电子镇流器、汽车电子点火器、电源转换器。

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工艺技术平台

我们运营着先进的6英寸晶圆产线,专注于功率器件与模拟集成电路的工艺研发和代工服务。依托稳定、灵活、高可靠性的工艺平台,我们为全球客户提供从产品设计到规模量产的完整解决方案,产品广泛应用于工业控制、汽车电子、电源管理、通信设备和消费电子等领域。

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